సెమీకండక్టర్ సరఫరా గొలుసు అంతటా అల్ట్రా-హై స్వచ్ఛత వాయువులు అవసరం. వాస్తవానికి, ఒక సాధారణ ఫ్యాబ్ కోసం, అధిక-స్వచ్ఛత వాయువులు సిలికాన్ తర్వాత అతిపెద్ద పదార్థ వ్యయం. గ్లోబల్ చిప్ కొరత నేపథ్యంలో, పరిశ్రమ గతంలో కంటే వేగంగా విస్తరిస్తోంది - మరియు అధిక స్వచ్ఛత వాయువుల డిమాండ్ పెరుగుతోంది.
సెమీకండక్టర్ తయారీలో సాధారణంగా ఉపయోగించే బల్క్ వాయువులు నత్రజని, హీలియం, హైడ్రోజన్ మరియు ఆర్గాన్.
Nఇట్రోజెన్
నత్రజని మన వాతావరణంలో 78% మరియు చాలా సమృద్ధిగా ఉంటుంది. ఇది రసాయనికంగా జడత్వం మరియు కండక్టివ్ కానిది. తత్ఫలితంగా, నత్రజని ఖర్చుతో కూడుకున్న జడ వాయువుగా అనేక పరిశ్రమలలోకి ప్రవేశించింది.
సెమీకండక్టర్ పరిశ్రమ నత్రజని యొక్క ప్రధాన వినియోగదారు. ఆధునిక సెమీకండక్టర్ తయారీ కర్మాగారం గంటకు 50,000 క్యూబిక్ మీటర్ల నత్రజని వరకు ఉపయోగించబడుతుందని భావిస్తున్నారు. సెమీకండక్టర్ తయారీలో, నత్రజని ఒక సాధారణ ఉద్దేశ్యంతో మరియు ప్రక్షాళన వాయువుగా పనిచేస్తుంది, సున్నితమైన సిలికాన్ పొరలను రియాక్టివ్ ఆక్సిజన్ మరియు గాలిలో తేమ నుండి రక్షించడం.
హీలియం
హీలియం ఒక జడ వాయువు. దీని అర్థం, నత్రజని వలె, హీలియం రసాయనికంగా జడమైనది - కాని ఇది అధిక ఉష్ణ వాహకత యొక్క అదనపు ప్రయోజనాన్ని కూడా కలిగి ఉంది. ఇది సెమీకండక్టర్ తయారీలో ముఖ్యంగా ఉపయోగపడుతుంది, ఇది అధిక-శక్తి ప్రక్రియల నుండి వేడిని సమర్ధవంతంగా నిర్వహించడానికి మరియు ఉష్ణ నష్టం మరియు అవాంఛిత రసాయన ప్రతిచర్యల నుండి వాటిని రక్షించడంలో సహాయపడుతుంది.
హైడ్రోజన్
ఎలక్ట్రానిక్స్ తయారీ ప్రక్రియ అంతటా హైడ్రోజన్ విస్తృతంగా ఉపయోగించబడుతుంది మరియు సెమీకండక్టర్ ఉత్పత్తి దీనికి మినహాయింపు కాదు. ముఖ్యంగా, హైడ్రోజన్ దీని కోసం ఉపయోగించబడుతుంది:
ఎనియలింగ్: సిలికాన్ పొరలను సాధారణంగా అధిక ఉష్ణోగ్రతలకు వేడి చేస్తారు మరియు క్రిస్టల్ నిర్మాణాన్ని మరమ్మతు చేయడానికి నెమ్మదిగా చల్లబరుస్తారు. హైడ్రోజన్ వేడిని పొరకు సమానంగా బదిలీ చేయడానికి మరియు క్రిస్టల్ నిర్మాణాన్ని పునర్నిర్మించడంలో సహాయపడటానికి ఉపయోగిస్తారు.
ఎపిటాక్సీ: సిలికాన్ మరియు జెర్మేనియం వంటి సెమీకండక్టర్ పదార్థాల ఎపిటాక్సియల్ నిక్షేపణలో అల్ట్రా-హై ప్యూరిటీ హైడ్రోజన్ తగ్గించే ఏజెంట్‌గా ఉపయోగించబడుతుంది.
నిక్షేపణ: హైడ్రోజన్‌ను సిలికాన్ ఫిల్మ్‌లుగా మార్చవచ్చు, వాటి అణు నిర్మాణాన్ని మరింత క్రమరహితంగా మార్చడానికి, ప్రతిఘటనను పెంచడానికి సహాయపడుతుంది.
ప్లాస్మా క్లీనింగ్: UV లితోగ్రఫీలో ఉపయోగించే కాంతి వనరుల నుండి టిన్ కాలుష్యాన్ని తొలగించడంలో హైడ్రోజన్ ప్లాస్మా ముఖ్యంగా ప్రభావవంతంగా ఉంటుంది.
ఆర్గాన్
ఆర్గాన్ మరొక గొప్ప వాయువు, కాబట్టి ఇది నత్రజని మరియు హీలియం వలె తక్కువ రియాక్టివిటీని ప్రదర్శిస్తుంది. అయినప్పటికీ, ఆర్గాన్ యొక్క తక్కువ అయనీకరణ శక్తి సెమీకండక్టర్ అనువర్తనాలలో ఉపయోగపడుతుంది. దాని సాపేక్ష సౌలభ్యం కారణంగా, ఆర్గాన్ సాధారణంగా సెమీకండక్టర్ తయారీలో ఎట్చ్ మరియు డిపాజిషన్ ప్రతిచర్యలకు ప్రాధమిక ప్లాస్మా వాయువుగా ఉపయోగించబడుతుంది. వీటితో పాటు, UV లితోగ్రఫీ కోసం ఎక్సైమర్ లేజర్లలో ఆర్గాన్ కూడా ఉపయోగించబడుతుంది.
ఎందుకు స్వచ్ఛత ముఖ్యమైనది
సాధారణంగా, సెమీకండక్టర్ టెక్నాలజీలో పురోగతులు సైజు స్కేలింగ్ ద్వారా సాధించబడ్డాయి మరియు కొత్త తరం సెమీకండక్టర్ టెక్నాలజీ చిన్న ఫీచర్ పరిమాణాల ద్వారా వర్గీకరించబడుతుంది. ఇది బహుళ ప్రయోజనాలను ఇస్తుంది: ఇచ్చిన వాల్యూమ్‌లో ఎక్కువ ట్రాన్సిస్టర్‌లు, మెరుగైన ప్రవాహాలు, తక్కువ విద్యుత్ వినియోగం మరియు వేగంగా మారడం.
అయినప్పటికీ, క్లిష్టమైన పరిమాణం తగ్గడంతో, సెమీకండక్టర్ పరికరాలు మరింత అధునాతనంగా మారతాయి. వ్యక్తిగత అణువుల స్థానం ముఖ్యమైన ప్రపంచంలో, తప్పు సహనం పరిమితులు చాలా గట్టిగా ఉంటాయి. తత్ఫలితంగా, ఆధునిక సెమీకండక్టర్ ప్రక్రియలకు సాధ్యమైనంత ఎక్కువ స్వచ్ఛత కలిగిన ప్రాసెస్ వాయువులు అవసరం.
WOFLY అనేది గ్యాస్ అప్లికేషన్ సిస్టమ్ ఇంజనీరింగ్‌లో ప్రత్యేకత కలిగిన హైటెక్ ఎంటర్ప్రైజ్: ఎలక్ట్రానిక్ స్పెషల్ గ్యాస్ సిస్టమ్, లాబొరేటరీ గ్యాస్ సర్క్యూట్ సిస్టమ్, ఇండస్ట్రియల్ సెంట్రలైజ్డ్ గ్యాస్ సప్లై సిస్టమ్, బల్క్ గ్యాస్ (లిక్విడ్) సిస్టమ్, హై ప్యూరిటీ గ్యాస్ మరియు స్పెషల్ ప్రాసెస్ గ్యాస్ సెకండరీ పైపింగ్ సిస్టమ్, కెమికల్ డెలివరీ సిస్టమ్, ప్యూర్ వాటర్ సిస్టమ్, ప్యూర్ వాటర్ సిస్టమ్ ఇంజనీరింగ్ మరియు సాంకేతిక సేవలు ప్రాజెక్ట్ సైట్ నిర్మాణం, మొత్తం సిస్టమ్ పరీక్ష, నిర్వహణ మరియు ఇతర సహాయక ఉత్పత్తులు సమగ్ర పద్ధతిలో.
పోస్ట్ సమయం: జూలై -11-2023